VNX-X3

所屬分類：VNX50-2 發(fā)布時間：2019-06-29

針對大流量CEDI系統(tǒng)設(shè)計(jì)的VNX膜堆作為一種清潔、環(huán)境友好的技術(shù)，相對需要化學(xué)藥劑再生的混床更有優(yōu)勢。采用大流量的CEDI膜堆可以使系統(tǒng)的配管更少，系統(tǒng)集成更簡單。

LX和VNX膜堆均采用平板式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，產(chǎn)水室和濃水室交替排布。平板式設(shè)計(jì)相對其它結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)（如卷式）而言水流分布和電流分布更均勻。這對膜堆的性能表現(xiàn)和膜堆使用壽命都非常關(guān)鍵

產(chǎn)品特征：

無需化學(xué)藥劑再生

雙O型圈密封保證不泄漏

無需濃水循環(huán)

無需注鹽系統(tǒng)

可在100psi，113F（45）下連續(xù)運(yùn)行

專利保護(hù)的全填充式設(shè)計(jì)

低運(yùn)行成本

詳細(xì)規(guī)則：

膜堆技術(shù)規(guī)格
最低產(chǎn)水流量 gpm (m³hr)	25 (5.7)
標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)水流量 gpm (m³hr)	50 (11.4)
最高產(chǎn)水流量 gpm (m³hr)	75 (17.0)
運(yùn)行參數(shù)
典型回收率 (%)	90-95%
最高供水壓力 psi (bar)	100 psi (7 bar)
標(biāo)準(zhǔn)壓力降 psi (bar)	20-30 psi (1.4-2.1 bar)
供水溫度	5-45°C (41-113 ° F)
直流電壓	0-600 VDC
直流電流	0-20 A
產(chǎn)水技術(shù)規(guī)格
產(chǎn)水電阻系數(shù)	>16 MΩ-cm
產(chǎn)水二氧化硅含量	90 - 99%去除率